• MBE (Molecular Beam Epitaxy)
• MOCVD (Metal-Organic.Chemical Vapour Deposition)
• ALD (Atomic Layer Deposition)
• Black Magic (graphene deposition)
• PECVD (plasma enhanced chemical vapour Deposition)
• ICP (inductively coupled plasma)
• Termal evaporator
• Cappa litografica
• Cappa preparazione campioni
• Profilometro
• Microscopio
• Mask Aligner
• Maskless o Microscopio

• MBE (deposizione epitassiale da fascio )
• MOCVD (deposizione epitassiale da metallorganico)
• ALD (deposizione strati atomici da plasma gas)
• Black Magic (deposizione grafene)
• PECVD (deposizione assistita da plasma)
• ICP (deep etching)

La facility Advanced Materials di Nanotec-Lecce svolge un ruolo chiave nell’offrire ai ricercatori l’accesso a sistemi stato dell’arte per la sintesi di film sottili di materiali metallici, dielettrici e semiconduttori. Obiettivi: studio e sviluppo di film policristallini o epitassiali di alta qualità e di strutture mesoscopiche; training scientifico e tecnico sulla sintesi di materiali; rendere fruibili tecnologie dei materiali innovative a gruppi di ricerca accademica e industriale su base collaborativa o commerciale.

Assistenza tecnica e consulenza su specifiche applicazioni dei materiali sintetizzati

Campus Universitario - Nanotec-CNR
S.P. Lecce-Monteroni, 73100 Lecce